1936年の創業以来、高純度化学の技術を磨き、国産初の半導体用ポジ型レジスト開発に成功したグローバル化学メーカー。世界トップ級シェアのフォトレジストを強みに、生成AI等の次世代技術も影で支え続けている。
半導体の微細加工に欠かせない感光性樹脂「フォトレジスト」で世界トップクラスのシェアを誇る化学メーカー。創業は1936年、炭鉱用照明電池に使われる精製水酸化カリウム（苛性カリ）の製造からスタートした。
同社の大きな転機となったのが、高度経済成長期における電子材料分野への本格進出である。1962年にプリント基板用フォトレジストの開発に着手し、1972年には国産初となる半導体用ポジ型フォトレジストの開発に成功。海外メーカーが優勢だった半導体材料市場において国産化の道を切り拓き、現在の半導体国策や産業基盤を陰で支える存在へと躍進を遂げた。
現在の強みは、「微細加工技術」「高純度化技術」、そして先端パッケージングに対応する「高密度実装（後工程）技術」という技術基盤と、顧客である主要半導体メーカーの拠点近くで開発・供給を行なう「顧客密着戦略」にある。売上高の約8割以上を海外が占めるグローバル体制を確立しており、近年は生成AI市場の急拡大に伴うGPU向け最先端EUVレジストや後工程（WHS）材料の需要急増を追い風に、過去最高業績の更新を続けている。
直近でもドイツのmicro resist technology社の完全子会社化や英国Irresistible Materials社との次世代EUV材料開発における戦略的提携など、技術革新への積極的な攻勢を緩めていない。
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