半導体製造の前工程において重要なフォトマスクの製造に関わる装置と、ウェーハの成膜に関わる装置を開発・製造している企業。
株式会社東芝から、電子ビームマスク描画装置を中心とした半導体製造装置事業が技術移管された東芝機械株式会社が前身。
海外の世界的有名半導体メーカーが主な取引先の為、海外売上高比率は90%以上。
最先端技術の研究開発に力を入れており、研究開発費率は22.6%と、全製造業平均4.81%を大きく上回る。
半導体特有の業績の浮き沈みは少なく、安定的に業績を維持。
国内拠点は1か所のみなので国内転勤の心配は無し。落ち着いて働くことが出来る。
新杉田駅（横浜駅から京浜東北線で12分程度）から同社正門まで徒歩5分以内の好立地に拠点を構えている
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